发明名称 |
一种基于可调控微镜阵列的成像装置 |
摘要 |
本发明公开了一种基于可调控微镜阵列的成像装置,包括沿光束传播方向依次设置的复眼透镜和光电探测器,所述的光电探测器设置在所述复眼透镜的成像焦平面区域,其特征在于,所述的复眼透镜包括平面基底以及设置在所述基底上的若干个弹性透镜,所述的弹性透镜包括光束入射的第一光学工作面以及与所述基底连接的第二光学工作面,所述的第一光学工作面和所述的第二光学工作面分别设有第一微纳导电线圈和第二微纳导电线圈,且所述的第一微纳导电线圈和所述的第二微纳导电线圈通过一个可控制所述的第一微纳导电线圈和所述的第二微纳导电线圈上的电学参数的控制处理器连接。 |
申请公布号 |
CN104597599A |
申请公布日期 |
2015.05.06 |
申请号 |
CN201510087542.1 |
申请日期 |
2015.02.16 |
申请人 |
杭州清渠科技有限公司 |
发明人 |
樊兆华;黄灏;高秀敏 |
分类号 |
G02B27/00(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B27/00(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种基于可调控微镜阵列的成像装置,包括沿光束传播方向依次设置的复眼透镜和光电探测器,所述的光电探测器设置在所述复眼透镜的成像焦平面区域,其特征在于,所述的复眼透镜包括平面基底以及设置在所述基底上的若干个弹性透镜,所述的弹性透镜包括光束入射的第一光学工作面以及与所述基底连接的第二光学工作面,所述的第一光学工作面和所述的第二光学工作面分别设有第一微纳导电线圈和第二微纳导电线圈,且所述的第一微纳导电线圈和所述的第二微纳导电线圈通过一个可控制所述的第一微纳导电线圈和所述的第二微纳导电线圈上的电学参数的控制处理器连接;所述的第一微纳导电线圈在所述基底平面上的投影与所述的第二微纳导电线圈重合。 |
地址 |
310018 浙江省杭州市下沙高教园区福雷德广场1-1-501 |