发明名称 METHOD FOR PRODUCING CONDUCTIVE FILM AND COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE FILM
摘要 <p>본 발명은, 펄스광 조사에 의해 열 가소성 수지 기재와의 밀착성이 양호한 도전막이 얻어지는 도전막의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다. 본 발명의 도전막의 제조 방법은, 열 가소성 수지 기재 상에, 산화구리 입자 (A) 와 구리 입자 (B) 와 유기 폴리머 (C) 를 함유하고, 상기 산화구리 입자 (A) 의 함유량에 대한 상기 구리 입자 (B) 의 함유량의 비율 (B/A) 가 10 ∼ 50 질량% 인 도전막 형성용 조성물을 부여하여 도막을 형성하는 도막 형성 공정과, 상기 도막에 대해 펄스광 조사 처리를 실시하여, 상기 산화구리 입자 (A) 를 환원하여 구리를 함유하는 도전막을 형성하는 환원 공정을 구비한다.</p>
申请公布号 KR20150048183(A) 申请公布日期 2015.05.06
申请号 KR20157007399 申请日期 2013.09.04
申请人 FUJIFILM CORPORATION 发明人 KARIYA TOSHIHIRO;OHTA HIROSHI
分类号 H01B1/22;H05K1/09;H05K3/12 主分类号 H01B1/22
代理机构 代理人
主权项
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