| 摘要 |
<p>Dispositivo para la observación, mediante reflexión o transmisión, de detalles estructurales milimétricos o submilimétricos de un objeto (2), que presenta un comportamiento que es por lo menos parcialmente especular, situado en una zona de exposición (3), caracterizado por que el dispositivo incluye: - por lo menos una fuente (5) de radiación con una superficie de emisión real o virtual (6) que difunde la radiación procedente de la fuente y que presenta por lo menos dos regiones diferenciadas (8, 9) que emiten flujos de radiación, siendo por lo menos una de las características de la radiación diferente de una región a la siguiente, - un sistema de proyección óptico (12) que está situado en la trayectoria de la radiación, en línea con la fuente de radiación con respecto a la zona de exposición, en el que este sistema de proyección óptico (12) incluye una abertura (14) de entrada, - un sistema de exposición óptico (18) situado entre la fuente (5) de radiación y la zona de exposición (3) y diseñado para conjugar ópticamente la abertura (14) de entrada del sistema de proyección óptico (12) y la superficie de emisión (6) de la fuente de radiación, - una superficie de proyección (10) situada en línea con la zona de exposición (3) con respecto al sistema de proyección óptico (12), y que se conjuga ópticamente con el objeto en la zona de exposición (3) mediante el sistema de proyección óptico (12), y cuya radiación recibida depende de la desviación sobre el objeto (2).</p> |
