| 发明名称 |
微影制程及使用于一微影系统之微影制程 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI483064 |
申请公布日期 |
2015.05.01 |
| 申请号 |
TW102121472 |
申请日期 |
2013.06.18 |
| 申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
李永尧;王盈盈;刘恒信;林进祥 |
| 分类号 |
G03F1/36;G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F1/36 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼 |
| 主权项 |
一种微影制程，包括：提供具有一曝光模组及一叠置模组之一微影系统；接收一传入基材至该微影系统之中；藉由该叠置模组执行一变形测量于该传入基材之上，其中该变形测量包括测量该传入基材之地形变化；从该变形测量产生一变形引起之叠置修正；进给该变形引起之叠置修正至该曝光模组；以及藉由使用该变形引起之叠置修正之该曝光模组执行一曝光制程于该传入基材。
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| 地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
