发明名称 |
微影中用于投射曝光装置之组合反射镜;FACET MIRROR FOR USE IN A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY |
摘要 |
提供一种用作为微影投影曝光装置之光束导引光学组件之组合反射镜。组合反射镜具有复数个个别镜(21)。就入射照射光之个别偏转,这些个别镜(21)各连接到致动器,而可绕至少一倾斜轴(x,y)分别倾斜。控制装置连接该等致动器,使该等个别镜(21)分为多个个别镜群组(19),而每一个别镜群组(19)包含至少两个个别镜(21)。结果形成组合反射镜,当安装于投影曝光装置中时,组合反射镜增加由投影曝光装置照射之物场之各种照射几何之设定之变化性。说明书提供形成组合反射镜之个别镜之各种实施例。 |
申请公布号 |
TW201516586 |
申请公布日期 |
2015.05.01 |
申请号 |
TW104102293 |
申请日期 |
2009.02.13 |
申请人 |
卡尔蔡司SMT有限公司 CARL ZEISS SMT GMBH |
发明人 |
丁杰 乌杜 DINGER, UDO;安德烈斯 马丁 ENDRES, MARTIN;韦伯 阿民 WERBER, ARMIN;慕柏杰 诺伯特;巴哈 弗罗瑞恩 BACH, FLORIAN |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G02B5/09(2006.01);G02B26/08(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
李宗德 |
主权项 |
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地址 |
德国 DE |