光阻下层膜形成组成物用添加剂及包含其之光阻下层膜形成组成物;ADDITIVE FOR RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION AND RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING THE SAME

摘要

本发明之课题为提供一种光阻下层膜形成组成物用添加剂及包含其之光阻下层膜形成组成物，该光阻下层膜形成组成物用添加剂系为了使于光阻下层膜上所形成之光阻图型与该光阻下层膜之密着性增大，将光阻下层膜之表面状态改质成疏水性状态。;本发明之解决手段为包含具有下述式(1)所示之构造单位之聚合物的光阻下层膜形成组成物用添加剂，以及包含树脂黏结剂、有机溶剂及前述添加剂之光阻下层膜形成组成物。;(式中，R1表示氢原子或甲基，L表示单键或二价之连结基，X表示不具有羟基之脂肪族烃基、脂环式烃基或杂原子为氧原子之杂环基)。