发明名称 有未掺杂的汲极欠叠环绕区域的穿隧场效电晶体(TFET);TUNNELING FIELD EFFECT TRANSISTORS (TFETs) WITH UNDOPED DRAIN UNDERLAP WRAP-AROUND REGIONS
摘要 叙述有未掺杂汲极欠叠环绕区域的穿隧场效电晶体(TFET)。例如,穿隧场效电晶体(TFET)包含同质接面主动区域形成在基板上。同质接面主动区域包含:掺杂源极区域、未掺杂通道区域、环绕区域及掺杂汲极区域。闸极电极及闸极介电层形成在未掺杂通道区域上,且在源极及环绕区域之间。
申请公布号 TW201517271 申请公布日期 2015.05.01
申请号 TW103121569 申请日期 2014.06.23
申请人 英特尔股份有限公司 INTEL CORPORATION 发明人 艾维可 尤嘉 AVCI, UYGAR E.;金瑞松 KIM, RASEONG;杨 艾恩 YOUNG, IAN A.
分类号 H01L29/78(2006.01);H01L21/28(2006.01) 主分类号 H01L29/78(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 美国 US