发明名称 |
有未掺杂的汲极欠叠环绕区域的穿隧场效电晶体(TFET);TUNNELING FIELD EFFECT TRANSISTORS (TFETs) WITH UNDOPED DRAIN UNDERLAP WRAP-AROUND REGIONS |
摘要 |
叙述有未掺杂汲极欠叠环绕区域的穿隧场效电晶体(TFET)。例如,穿隧场效电晶体(TFET)包含同质接面主动区域形成在基板上。同质接面主动区域包含:掺杂源极区域、未掺杂通道区域、环绕区域及掺杂汲极区域。闸极电极及闸极介电层形成在未掺杂通道区域上,且在源极及环绕区域之间。 |
申请公布号 |
TW201517271 |
申请公布日期 |
2015.05.01 |
申请号 |
TW103121569 |
申请日期 |
2014.06.23 |
申请人 |
英特尔股份有限公司 INTEL CORPORATION |
发明人 |
艾维可 尤嘉 AVCI, UYGAR E.;金瑞松 KIM, RASEONG;杨 艾恩 YOUNG, IAN A. |
分类号 |
H01L29/78(2006.01);H01L21/28(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
美国 US |