被膜形成用组成物及使用其之被膜形成方法

摘要

本发明提供一种可形成气体屏障性优良之被膜的被膜形成用组成物以及一种被膜形成方法。;本发明之被膜形成用组成物，其特征在于包含不具羟基或羧基的聚矽氧烷、聚矽氮烷及有机溶剂而成；本发明之被膜形成方法，其系包含将该组成物涂布于基板上并进行曝光的步骤而成。