发明名称 |
含有相分离结构之结构体的制造方法、图型形成方法及微细图型形成方法;METHOD OF PRODUCING STRUCTURE CONTAINING PHASE-SEPARATION STRUCTURE, METHOD OF FORMING PATTERN, AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN |
摘要 |
本发明系关于一种含有相分离结构之结构体的制造方法,其特征为含有于基板上,形成含有复数种类嵌段体所结合之纯度为98%以上的嵌段共聚物之层的步骤、及将含有该嵌段共聚物之层进行相分离的步骤。本发明中,进一步具有于基板上涂布中性化膜,形成由该中性化膜所成的层之步骤、及形成前导图型之步骤为佳。 |
申请公布号 |
TW201516086 |
申请公布日期 |
2015.05.01 |
申请号 |
TW103125866 |
申请日期 |
2014.07.29 |
申请人 |
东京应化工业股份有限公司 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. |
发明人 |
瀬下武広 SESHIMO, TAKEHIRO;太宰尙宏 DAZAI, TAKAHIRO;前桥贵哉 MAEHASHI, TAKAYA;宫城贤 MIYAGI, KEN;内海义之 UTSUMI, YOSHIYUKI |
分类号 |
C08L53/00(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F7/075(2006.01) |
主分类号 |
C08L53/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 JP |