发明名称 | 基板处理装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI483300 | 申请公布日期 | 2015.05.01 |
申请号 | TW101100073 | 申请日期 | 2012.01.02 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 小田桐正弥;户泽茂树;宇贺神肇 |
分类号 | H01L21/30;H01L21/67 | 主分类号 | H01L21/30 |
代理机构 | 代理人 | 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 | |
主权项 | 一种基板处理装置,其系具有处理基板之可减压之处理腔室者,且包括:基板载置台,其载置基板;挡板,其以将上述处理腔室之内部分隔为处理空间与排气空间之方式设置于上述基板载置台之周围;以及排气口,其对上述处理腔室之内部进行排气;且于上述基板载置台与上述挡板之间设置有间隙;于上述挡板形成有使上述处理空间与上述排气空间连通之复数个连通孔;形成于上述挡板之复数个连通孔中位于上述排气口附近之连通孔之密度,较位于其他部分之连通孔之密度低。 | ||
地址 | 日本 |