| 主权项 |
一种微影投影曝光装置的光学系统，包含：-至少一反射镜配置(200)，其具有复数个反射镜元件，这些元件可彼此独立位移以改变该反射镜配置所反射光线的角度分布；以及-一偏光影响光学配置(300，800，900)，包含一第一半波板(310，810，910)以及至少一第二半波板(320，920，930)；-其中该第一半波板(310)和该第二半波板(320)连续配置在与该光传播方向有关的该光学系统内；-其中该第一半波板(310)和该第二半波板(320)可在其相对位置内彼此相对位移，且该第一半波板(310)和该第二半波板(320)可彼此相对位移使得彼此在该光传播方向内中重叠程度为可变。
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