发明名称 | 使用于基体处理系统之基体搬送装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI482729 | 申请公布日期 | 2015.05.01 |
申请号 | TW101137384 | 申请日期 | 2012.10.11 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 广木勤 |
分类号 | B65G49/07;H01L21/677 | 主分类号 | B65G49/07 |
代理机构 | 代理人 | 林秋琴 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;何爱文 台北市大安区敦化南路1段245号8楼 | |
主权项 | 一种基体搬送装置,其具备有:腔室壁,系区划搬送空间;台座,系收纳在该搬送空间内;线性马达搬送机构,系在该搬送空间内使该台座移动;光学窗,系设置于该搬送空间与该搬送空间的外部空间之间;以及雷射计测器,系透过该光学窗而朝向该台座照射雷射光,并接收来自该台座的反射光,来计测该台座的位置;其中另具备有光学性地连接该光学窗与该搬送空间之管体;该雷射计测器系透过该光学窗及该管体的内孔而照射该雷射光,并透过该管体的内孔及该光学窗而接收该反射光;该管体系包含有区划出该内孔之内面;该内面的至少一部分系具有0.1mm~3mm的凹凸。 | ||
地址 | 日本 |