液体处理装置、液体处理方法及记忆媒体

主权项

一种液体处理装置，将被处理基板水平固持于基板固持部，一面使该被处理基板绕着铅直轴旋转，一面藉由化学液进行液体处理，其特征在于包含：化学液供给部，将化学液供给至旋转之被处理基板周缘部；覆盖构件，隔着空间与由该基板固持部固持之被处理基板上表面对向设置；气体供给口，设于该覆盖构件，以朝该空间供给气体；灯加热器，于该空间内沿被处理基板周向配置，用来加热该被处理基板周缘部；及突起部，于该覆盖构件周缘部沿周向朝下方侧突出设置，以在其与该被处理基板之间，形成高度尺寸小于配置有该灯加热器之空间中被处理基板与覆盖构件间之高度尺寸的间隙；且自该化学液供给部朝被处理基板供给化学液的供给位置，相较于该灯加热器之配置位置更靠近周缘部。