发明名称 曝光品质控制方法
摘要
申请公布号 TWI483084 申请公布日期 2015.05.01
申请号 TW099102528 申请日期 2010.01.29
申请人 世界先进积体电路股份有限公司 发明人 刘让华;王逢华;黄宏达
分类号 G03F7/20;G03F9/02;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种曝光品质控制方法,适用于一曝光机台,该曝光机台系为一NIKON的一即时影像效能控制系统(real-time imaging performance control system),该曝光机台根据一曝光条件,对一晶圆片进行一曝光动作,该曝光品质控制方法包括:利用一焦距管理方法,得知该曝光机台的一第一焦距;根据该第一焦距,调整该曝光机台;量测该即时影像效能控制系统,得知该曝光机台的一第二焦距;根据该第二焦距,调整该曝光机台;量测该即时影像效能控制系统,得知该曝光机台的一第三焦距;以及根据该第三焦距,产生该曝光条件,其中利用一光罩,量测该即时影像效能控制系统,以求得该第二及第三焦距。
地址 新竹县新竹科学工业园区园区三路123号
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