非晶矽膜形成方法及非晶矽膜形成装置;AMORPHOUS SILICON FILM FORMATION METHOD AND AMORPHOUS SILICON FILM FORMATION APPARATUS

摘要

本发明揭示一种用于沉积一非晶矽膜的方法及装置。该方法包含在一基板已经载入一腔室内的状态下，将一来源气体以及一大气气体供应至该基板上，在该基板上沉积该非晶矽膜。该大气气体包含氢与氦中至少一者。该来源气体包含矽烷(SiH2)、乙矽烷(Si2H6)以及二氯矽烷(SiCl2H2)中至少一者。