真空处理装置

摘要

本发明之真空处理装置，系具备：在真空容器内对向于支撑于基板支撑部(41)之基板的处理面而设之加热部(24)；对向于支撑于基板支撑部(41)之基板的背面而设之冷却部(25)；在藉加热部(24)而对于基板进行加热处理时，配置于基板与冷却部(25)之间的既定位置从而为了使基板的中心部与外周部分之温度差作减低，而对于基板的外周部分之温度作修正的温度修正部(45)；以及使温度修正部(45)从既定位置作退避之修正部移动装置(49)。