| 发明名称 |
半导体结晶制造装置用排气通路的清洁装置及其清洁方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI482890 |
申请公布日期 |
2015.05.01 |
| 申请号 |
TW101106632 |
申请日期 |
2012.03.01 |
| 申请人 |
胜高股份有限公司 |
发明人 |
冲田宪治 |
| 分类号 |
C30B35/00;H01L21/20;F16K51/02 |
主分类号 |
C30B35/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
| 主权项 |
一种半导体结晶制造装置用排气通路的清洁装置，将用以排出半导体结晶制造装置的腔室内的气体之设置于上述腔室中的排气通路中堆积的粉尘除去，其是藉由自上述腔室外进行抽吸而除去上述粉尘，其特征在于包括：清洁用开闭阀，可卸除地安装于面向上述腔室的上述排气通路的开口部，且于抽吸状态下使上述开口部间歇性地开闭，以将大气导入至上述排气通路内，并藉由抽吸导入至上述排气通路内的大气，而排出上述排气通路内的大气；以及阀驱动机构，驱动上述清洁用开闭阀。
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| 地址 |
日本 |
