发明名称 アモルファスカーボンのドーピングによるフルオロカーボン(CFx)の接合の改善
摘要 <p>A method of forming an amorphous carbon layer on an insulating layer includes the step of forming an amorphous carbon layer using a plasma reaction process. The amorphous carbon layer is formed in an atmosphere containing a plasma excitation gas, a CxHy series gas, a silicon-containing gas, and an oxygen-containing gas.</p>
申请公布号 JP5710606(B2) 申请公布日期 2015.04.30
申请号 JP20120517496 申请日期 2010.06.25
申请人 发明人
分类号 H01L21/314;C23C16/26;H01L21/31 主分类号 H01L21/314
代理机构 代理人
主权项
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