发明名称 |
リソグラフィ装置、デバイス製造方法及びアテニュエータの製造方法 |
摘要 |
露光装置、デバイス製造方法およびアテニュエータの製造方法が開示される。実施の形態によれば、露光装置は、個別に制御可能な複数の放射ビームを提供するように構成されるプログラマブルパターニングデバイスと、各放射ビームをターゲット上の個々の場所に投影するように構成される投影系と、放射ビームがターゲットに与えることのできる最大放射束または背景露光レベルについてのターゲット上の位置の関数としての標準偏差を低減するように構成されるアテニュエータと、を備える。【選択図】図1 |
申请公布号 |
JP2015513224(A) |
申请公布日期 |
2015.04.30 |
申请号 |
JP20150502152 |
申请日期 |
2013.02.05 |
申请人 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. |
发明人 |
フークス、マルティヌス;ブリーケル、アルノ |
分类号 |
H01L21/027;G02B13/00;G03F7/20 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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