真空処理装置

摘要

真空処理装置はターゲットに対して傾斜可能で、基板を冷却する冷凍機を備える基板ホルダーと、真空容器の外側に設けられた圧縮装置と基板ホルダー内の冷却機との間で冷媒を移送するホースと、真空容器の外側に設けられ、ホースを所定の曲率半径を越えない状態で渦巻状に収容する収容部とを備えている。