ERFASSUNG VON VERUNREINIGUNGEN BEI DER HERSTELLUNG VON KOMPONENTEN FÜR OPTISCHE ANLAGEN FÜR DEN EINSATZ IN DER MIKRO-LITHOGRAPHIE

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Komponenten für optische Anlagen für den Einsatz in der Mikrolithographie, insbesondere von Komponenten für EUVL-Projektionsbelichtungsanlagen oder Anlagen zur Charakterisierung von Masken oder Retikeln, wobei eine Komponente (1, 2) oder eine Mitlaufprobe nach einem Herstellungsschritt zumindest teilweise mit Hilfe eines chemischen Ätz- oder Auflösemittels (5) aufgelöst wird, wobei das so entstandene Gemisch aus Komponente oder Mitlaufprobe einerseits und Ätz- oder Auflösemittel andererseits einer chemischen Analyse unterzogen wird.