RANDDOMINANTES AUSRICHTUNGSVERFAHREN FÜR EIN BELICHTUNGS-SCANNER-SYSTEM

摘要

Es ist ein randdominantes Ausrichtungsverfahren zur Verwendung in einem Belichtungs-Scanner-System vorgesehen. Das Verfahren umfasst die folgenden Schritte: Bereitstellen eines Wafers, der eine Mehrzahl von Belichtungsbereichen aufweist, wobei jeder der Belichtungsbereiche eine Mehrzahl von Ausrichtungsmarkierungen aufweist; Ermitteln eines ersten äußeren Bereichs des Wafers, wobei der erste äußere Bereich einen ersten Anteil der Belichtungsbereiche entlang eines ersten äußeren Randes des Wafers umfasst; Ermitteln eines Scan-Pfades gemäß den Belichtungsbereichen des ersten äußeren Bereichs; und Anwenden eines Ausrichtungsverfahrens auf jeden der Belichtungsbereiche in dem ersten äußeren Bereich gemäß dem Scan-Pfad und einer Ausrichtungsmarkierung jedes der Belichtungsbereiche des ersten äußeren Bereichs.