| 发明名称 | 批处理式基板处理装置 | ||
| 摘要 | 公开了一种批处理式基板处理装置。本发明涉及的批处理式基板处理装置，能够处理多个基板(50)，其特征在于，包括：本体(100)，其具备腔室(110)，所述腔室(110)用于提供处理多个基板(50)的空间；以及多个加热器单元(200)，配置在腔室(110)的整个外侧面，该加热器单元(200)包括分别隔着规定间隔配置的多个单位加热器(201)。 | ||
| 申请公布号 | CN104576445A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
| 申请号 | CN201410559509.X | 申请日期 | 2014.10.20 |
| 申请人 | 泰拉半导体株式会社 | 发明人 | 朴暻完 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 姜虎;陈英俊 |
| 主权项 | 一种批处理式基板处理装置，能够处理多个基板，其特征在于，包括：本体，其具备腔室，所述腔室提供处理所述多个基板所需的空间；以及多个加热器单元，配置在所述腔室的整个外侧面，所述加热器单元包括分别隔着规定间隔配置的多个单位加热器。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||