反射沉积环和包括反射沉积环的基板处理室

摘要

本文提供用于改良横越基板的温度均匀性的设备。在某些实施方式中，一种沉积环，用于使用在基板处理系统中来处理基板，该沉积环可包括：环状主体，该环状主体具有第一表面、相对第二表面、和开口，该开口通过所述第一表面与第二表面，其中该第二表面是配置成设置于基板支座之上，该基板支座具有支撑表面以支撑具有给定宽度的基板，且其中该开口的尺寸经过设计，以暴露该支撑表面的主要部分；并且其中该第一表面包括至少一个反射部，该至少一个反射部是配置来将热能反射朝向该环状主体的中心轴，其中该至少一个反射部具有表面积是该第一表面的总表面积的大约百分之五至大约百分之五十。

主权项

一种沉积环，用于使用在基板处理系统中，以处理基板，所述沉积环包括：环状主体，所述环状主体具有第一表面、相对第二表面、和中央开口，所述中央开口通过所述第一表面与第二表面，其中所述第二表面是配置成设置于基板支座之上，所述基板支座具有支撑表面以支撑具有给定宽度的基板，且其中所述开口的尺寸经过设计，以暴露所述支撑表面的主要部分；并且其中所述第一表面包括至少一个反射部，所述至少一个反射部是配置来将热能反射朝向所述环状主体的中心轴，其中所述至少一个反射部具有表面积是所述第一表面的总表面积的至少大约百分之五。