一种高导电率低反射率金属网格的模具制备方法及其模具

摘要

本发明提供一种高导电率低反射率金属网格的模具制备方法，采用涂布光阻层、压印、电浆蚀刻的加工工艺，其光阻层厚度为20~60微米，光阻层为两层蚀刻速率不同的光阻层叠加而成，且，上层光阻层所选用的光阻材料的电浆蚀刻速率大于下层光阻层所选用的光阻材料的电浆蚀刻速率；电浆蚀刻条件为：电浆功率为2000~3000W，蚀刻时间为2~30分钟。本发明的模具制作方法制备工艺简单、易于操作，用其可制备出线宽低于40微米的金属网格，并且，用其制备的金属网格上宽下窄，兼具高导电率低反射率的双重优良特性。

主权项

一种高导电率低反射率金属网格的模具制备方法，包括以下步骤：（1）在透明基材上涂布光阻层，光阻层厚度为20~60微米，光阻层为两层蚀刻速率不同的光阻层叠加而成；且，上层光阻层所选用的光阻材料的电浆蚀刻速率大于下层光阻层所选用的光阻材料的电浆蚀刻速率；（2）采用底部带有电路图案凸起的压印模板对光阻层进行压印，拔出压印模板后，在光阻层内形成电路图案沟槽；（3）对压印后的光阻层进行电浆蚀刻，露出透明基材，其中，电浆蚀刻条件为：电浆功率为2000~3000W，蚀刻时间为2~30分钟，在透明基材上形成上宽下窄的金属网格沟槽，制得金属网格模具。