| 发明名称 | 用于确定对准误差的装置、设备和方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于确定由于当第一基底（1）连接于第二基底（2）时第一基底（1）相对于第二基底（2）的应变和/或变形而发生的局部对准误差的装置、设备和方法，并且所述装置、设备和方法用于特别地通过晶圆中的至少一个的至少一个透明区域，借助于在晶圆的对准期间和/或之后记录的晶圆的位置图、应变图和/或应力图进行两个晶圆的对准，可选地，两个晶圆相对于彼此的相对位置特别地在原地被校正。 | ||
| 申请公布号 | CN102656678B | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
| 申请号 | CN201180004739.4 | 申请日期 | 2011.09.07 |
| 申请人 | EV 集团 E·索尔纳有限责任公司 | 发明人 | M. 温普林格 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 臧霁晨;王忠忠 |
| 主权项 | 一种用于确定局部对准误差的装置，该局部对准误差由于当第一基底(1)连接于第二基底(2)时所述第一基底(1)相对于所述第二基底(2)的应变和/或变形而出现，所述装置具有以下特征：–能够通过初始检测装置检测沿所述第一基底(1)的第一接触表面(1k)的应变值的第一应变图和/或沿所述第一接触表面(1k)的应力值的第一应力图，和/或–能够通过所述检测装置检测沿第二接触表面(2k)的应变值的第二应变图和/或沿所述第二接触表面(2k)的应力值的第二应力图，以及–评价装置，所述评价装置用于评价所述第一应变图和/或所述第二应变图和/或所述第一应力图和/或所述第二应力图，能够通过所述评价装置确定局部对准误差。 | ||
| 地址 | 奥地利圣弗洛里安 | ||