发明名称 |
包含抑制剂的无空隙亚微米结构填充用金属电镀组合物 |
摘要 |
包含金属离子源和至少一种抑制剂的组合物,所述抑制剂可通过使a)含有至少3个活性氨官能团的胺化合物与b)氧化乙烯与至少一种选自C3和C4氧化烯的化合物的混合物反应而获得。 |
申请公布号 |
CN102365395B |
申请公布日期 |
2015.04.29 |
申请号 |
CN201080015497.4 |
申请日期 |
2010.03.31 |
申请人 |
巴斯夫欧洲公司 |
发明人 |
C·勒格尔-格普费特;R·B·雷特尔;C·埃姆内特;A·哈格;D·迈耶 |
分类号 |
C25D3/38(2006.01)I;C23C18/31(2006.01)I;C23C18/32(2006.01)I;H01L21/288(2006.01)I;H05K3/18(2006.01)I;H05K3/24(2006.01)I;C25D3/58(2006.01)I |
主分类号 |
C25D3/38(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
刘金辉;林柏楠 |
主权项 |
一种包含金属离子源和至少一种抑制剂的组合物,所述抑制剂可通过使a)与b)反应以形成氧化乙烯与C<sub>3</sub>‑C<sub>4</sub>氧化烯的无规共聚物而获得:a)含有至少3个活性氨官能团的胺化合物,b)氧化乙烯与至少一种选自C<sub>3</sub>和C<sub>4</sub>氧化烯的化合物的混合物,其中氧化乙烯与其他C<sub>3</sub>‑C<sub>4</sub>氧化烯的共聚物中的氧化乙烯含量为30‑70%。 |
地址 |
德国路德维希港 |