一种带清洗部件的液体喷洒装置

摘要

本发明涉及晶片涂胶显影工艺中的晶元表面喷洒液体的装置，具体地说是一种带清洗部件的液体喷洒装置。包括喷嘴和清洗部件，其中喷嘴包括喷嘴底件和喷嘴上盖，其中喷嘴底件的上表面上沿长度方向设有液体均布槽，所述喷嘴上盖设置于喷嘴底件的上方，喷嘴上盖与所述液体均布槽相对应的一侧向下延伸、并与喷嘴底件的侧壁之间留有用于形成水幕的缝隙，所述喷嘴上盖上设有与喷嘴底件上的液体均布槽连通的液体进口，液体由液体进口进入液体均布槽、并由缝隙流出形成水幕；所述喷嘴喷洒完液体后，将喷嘴放置于清洗部件上，通过清洗部件进行清洗。本发明可以在显影工艺中喷洒均匀的液体，可以有效的保证显影工艺效果。

主权项

一种带清洗部件的液体喷洒装置，其特征在于：包括喷嘴和清洗部件(5)，其中喷嘴包括喷嘴底件(1)和喷嘴上盖(6)，其中喷嘴底件(1)的上表面上沿长度方向设有液体均布槽，所述喷嘴上盖(6)设置于喷嘴底件(1)的上方，喷嘴上盖(6)与所述液体均布槽相对应的一侧向下延伸、并与喷嘴底件(1)的侧壁之间留有用于形成水幕的缝隙(13)，所述喷嘴上盖(6)上设有与喷嘴底件(1)上的液体均布槽连通的液体进口(8)，液体由液体进口(8)进入液体均布槽、并由缝隙(13)流出形成水幕；所述喷嘴喷洒完液体后，将喷嘴放置于清洗部件(5)上，通过清洗部件(5)进行清洗。