发明名称 |
双层腕带及其制作方法 |
摘要 |
一种双层腕带及其制作方法,包括:一第一呈U形对称的箍体,在邻近其两端部附近分别形成一镂空区,任一镂空区的周围于内表面上形成有一突起的垂直壁面以及一水平壁面;一第二呈U形对称的箍体,其外表面有一凹陷部,凹陷部中形成一对环形凹槽;其中,第一箍体容置于凹陷部之中,同时第一箍体的一对镂空区周围形成的垂直壁面及水平壁面分别与一对环形凹槽的垂直部及水平部互相干涉嵌合。 |
申请公布号 |
CN103799622B |
申请公布日期 |
2015.04.29 |
申请号 |
CN201410060625.7 |
申请日期 |
2014.02.21 |
申请人 |
英华达(上海)科技有限公司;英华达(上海)电子有限公司;英华达股份有限公司 |
发明人 |
张沈 |
分类号 |
A44C5/20(2006.01)I |
主分类号 |
A44C5/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
施浩 |
主权项 |
一种双层腕带,包括:一第一箍体,呈U形对称且具有两弯折部,具有一内表面及与该内表面相对的一外表面,自该第一箍体的两末端部至最接近的该等弯折部的区域上,分别形成有一镂空区,任一镂空区的周围于该内表面上形成有一突起的垂直壁面,至少一部分该突起的垂直壁面上进一步形成有一水平壁面,该突起的垂直壁面自该内表面朝远离该内表面的方向延伸,该水平壁面自该垂直壁面朝该镂空区延伸;及一第二箍体,呈U形对称且具有两弯折部,具有一内表面及与该内表面相对的一外表面,该第二箍体的该外表面与该第一箍体的该内表面相接,该第二箍体的该外表面具有一凹陷部,该凹陷部中形成有一对环形凹槽,各环形凹槽具有一垂直部及一水平部,该第一箍体恰可容置于该凹陷部之中,同时该第一箍体的该垂直壁面与该垂直部互相干涉嵌合,该第一箍体的该水平壁面与该水平部互相干涉嵌合。 |
地址 |
201114 上海市闵行区浦星路789号 |