一种等离子体处理设备

摘要

本发明公开了一种等离子体处理设备，所述等离子体处理设备在安装板下方设置一导体屏蔽装置，可以将所述导体屏蔽装置环绕的下电极下方影响电场分布的导体部件进行屏蔽，防止所述不可或缺的导体部件影响反应腔内的电场均匀分布。所述导体屏蔽装置通常采用金属材质，其可以为内空的圆柱形结构或者下端逐渐收缩的碗状结构，设置简单，易于加工。

主权项

一种等离子体处理设备，包括一反应腔，所述反应腔下方设置一基座用于支撑待处理基片，所述基座下方设置一安装板用于支撑所述基座，所述安装板下方设置若干导体部件，其特征在于：所述安装板下方环绕所述导体部件还设置一导体屏蔽装置，所述导体屏蔽装置远离所述安装板的一端到所述安装板的垂直距离大于等于所述导体部件远离所述安装板的一端到所述安装板的垂直距离。