激光蚀刻装置的可调式空间滤波器

摘要

本发明公开一种沿着划线槽辐射蚀刻大体平整的半导体衬底的装置，该划线槽在该衬底上的目标表面上的相对行的半导体器件之间延伸，划线槽具有平行于第一方向的长度和平行于第二方向的宽度，该第一第二方向各自平行于卡迪尔坐标系统的Y轴，该装置包含有：衬底固定器，用于固定衬底；照射器，用于生成可调式的数个光束的阵列；投射系统，用于将光束聚焦在衬底固定于衬底固定器时的目标表面；驱动器系统，用于使得衬底固定器相对于光束在平行于XY平面上引起相对位移；该装置还包含有：可调式的空间滤波器，其设置在照射器和衬底固定器之间，该空间滤波器包括多个机动板体，该机动板体的位置能够被调整以致于至少部分地阻挡所述的阵列的选定光束。

主权项

一种用于沿着划线槽辐射蚀刻大体平整的半导体衬底的装置，该划线槽在该衬底上的目标表面上的相对行的半导体器件之间延伸，所述的划线槽具有平行于第一方向延伸的长度和平行于第二方向延伸的宽度，该第一方向和第二方向各自平行于卡迪尔坐标系统的X轴和Y轴，该装置包含有：衬底固定器，用于固定衬底；照射器，用于生成可调式的数个光束的阵列；投射系统，用于将所述的光束聚焦在衬底固定于衬底固定器时的所述目标表面；驱动器系统，用于使得衬底固定器相对于所述的光束在平行于XY平面上引起相对位移；其特征在于，该装置还包含有：可调式的空间滤波器，其设置在所述的照射器和所述的衬底固定器之间，该空间滤波器包括多个机动板体，该机动板体的位置能够被调整以致于至少部分地阻挡所述的阵列的选定光束。