发明名称 超低本底α电离室
摘要 本发明属于放射性测量技术领域,公开了一种用于测量超低本底α样品的超低本底α电离室。该电离室包括一个圆柱形的腔体和屏蔽体,其中腔体位于屏蔽体内且位于屏蔽体底部的中心位置;腔体顶部的下表面设置有圆形的阳极和圆环形保护极,阳极和保护极的工作电压相同且均作为收集极,阳极、保护极及圆柱形腔体顶部的圆心位置一致,保护极位于阳极的外侧且与阳极之间绝缘;腔体的底部设置有样品托,同时也作为阴极;阳极和阴极之间的距离为常压下α粒子在电离室工作气体中射程的2~5倍。该电离室具有能够对电离室本身材料的α发射率进行甄别和剔除、用于测量超低本底α样品的特点。
申请公布号 CN104576285A 申请公布日期 2015.04.29
申请号 CN201410741259.1 申请日期 2014.12.08
申请人 中国原子能科学研究院 发明人 姚顺和;杨巧玲;姚艳玲;吕晓侠;刁立军;陈细林;汪建清;郭晓清;孟军;邢雨
分类号 H01J47/02(2006.01)I;G01T7/00(2006.01)I 主分类号 H01J47/02(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 超低本底α电离室,其特征在于,该电离室包括一个圆柱形的腔体和屏蔽体,其中腔体位于屏蔽体内且位于屏蔽体底部的中心位置;腔体顶部的下表面设置有圆形的阳极和圆环形保护极,阳极和保护极的工作电压相同且均作为收集极,阳极、保护极及圆柱形腔体顶部的圆心位置一致,保护极位于阳极的外侧且与阳极之间绝缘;腔体的底部设置有样品托,同时也作为阴极;阳极和阴极之间的距离为常压下α粒子在电离室工作气体中射程的2~5倍。
地址 102413 北京市房山区北京市275信箱65分箱