超薄反应腔

摘要

本发明涉及用于激光气相化学反应的密闭空腔装置技术领域，提供超薄反应腔，包括基座，基座设有反应孔、窗口片、喷嘴部件及反应气分配环，喷嘴部件设有反应气喷口，反应气分配环设有环形气道，基座设有一反应气进气道、一反应气出气道及一真空抽气道，基座下表面设有一反应气收集嘴及一真空抽气嘴，反应气分配环上设有凹槽，凹槽的大小沿气体流动的方向逐渐变大。反应气分配环与喷嘴部件可拆卸连接，且基座只设置一个反应气进气道、一个反应气出气道及一个真空抽气道，超薄反应腔厚度更薄，反应定域精度更高，修补缺陷更小；由于反应气通过各凹槽调节，气流量平衡，使得反应气均匀、稳定喷覆，对沉积方向、气流进出口不敏感，提高修补良品率。

主权项

超薄反应腔，用于激光气相化学沉积修补，其特征在于：包括基座，所述基座上穿设有反应孔，所述反应孔的孔内上侧设有用于盖住所述反应孔且透明的窗口片，下侧设有喷嘴部件，所述喷嘴部件穿设有反应气喷口，所述喷嘴部件的上表面可拆卸连接有反应气分配环，所述反应气分配环的内孔与所述反应气喷口相对、可供激光束穿过；所述反应气分配环开设有一与所述反应气喷口相通的环形气道，所述基座上设有一与所述环形气道相通的反应气进气道，所述基座下表面上于所述反应孔的外周设有一呈环状的反应气收集嘴，所述基座上还设有一与所述反应气收集嘴及外界相通的反应气出气道，所述基座下表面上于所述反应气收集嘴的外周设有一呈环状、用于抽离空气以使反应气被真空隔离的真空抽气嘴，所述基座上还设有一与所述真空抽气嘴相通的真空抽气道；所述反应气分配环上设有多个周向分布、与所述环形气道相通的凹槽，所述凹槽的大小沿反应气流动的方向逐渐变大。