发明名称 | 提高激光器量子阱载流子限制能力的制备方法 | ||
摘要 | 一种提高量子阱载流子限制能力的激光器的制备方法,包括以下步骤:步骤1:在衬底上依次制作n型限制层、下波导层、下n型掺杂层、量子阱有源区、上n型掺杂层、上波导层、p型限制层和p型接触层;步骤2:将p型接触层和部分p型限制层采用湿法腐蚀或干法刻蚀的方法,制作成脊型;步骤3:采用光刻的方法在p型接触层的上表面制作p型欧姆电极;步骤4:将衬底减薄、清洗;步骤5:在衬底的背面制作n型欧姆电极,形成激光器;步骤6:进行解理,在激光器的腔面镀膜,最后封装在管壳上,完成制备。本发明可减小载流子的泄露,改善激光器性能。 | ||
申请公布号 | CN104577712A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
申请号 | CN201510017017.2 | 申请日期 | 2015.01.13 |
申请人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明人 | 李翔;赵德刚;江德生;刘宗顺;陈平;朱建军 |
分类号 | H01S5/34(2006.01)I | 主分类号 | H01S5/34(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 任岩 |
主权项 | 一种提高量子阱载流子限制能力的激光器的制备方法,包括以下步骤:步骤1:在衬底上依次制作n型限制层、下波导层、下n型掺杂层、量子阱有源区、上n型掺杂层、上波导层、p型限制层和p型接触层;步骤2:将p型接触层和部分p型限制层采用湿法腐蚀或干法刻蚀的方法,制作成脊型;步骤3:采用光刻的方法在p型接触层的上表面制作p型欧姆电极;步骤4:将衬底减薄、清洗;步骤5:在衬底的背面制作n型欧姆电极,形成激光器;步骤6:进行解理,在激光器的腔面镀膜,最后封装在管壳上,完成制备。 | ||
地址 | 100083 北京市海淀区清华东路甲35号 |