发明名称 |
一种高耐磨套筒 |
摘要 |
一种高耐磨套筒,具有容纳内插件穿过的内孔,该内孔的表面设有CrAlN/SiO<sub>2</sub>纳米多层涂层,该CrAlN/SiO<sub>2</sub>纳米多层涂层由多个CrAlN层和SiO<sub>2</sub>层一一交替叠加而成;所述CrAlN/SiO<sub>2</sub>纳米多层涂层是采用反应溅射法在所述高耐磨套筒的基体上交替溅镀而形成的,其总厚度为2.2-3.5μm,每一CrAlN层厚度为5nm,每一SiO<sub>2</sub>层厚度为0.5-1.5nm。本实用新型具有优异的耐磨性、耐腐蚀性、减摩性和抗高温氧化性能,能够用作为各种形式的轴承圈、轴套、钻套、导套、气缸套、液压缸体和阀套等。 |
申请公布号 |
CN204300130U |
申请公布日期 |
2015.04.29 |
申请号 |
CN201420745342.1 |
申请日期 |
2014.12.02 |
申请人 |
比尔安达(上海)润滑材料有限公司;平湖比尔安达新材料科技有限公司;上海理工大学 |
发明人 |
汪鸿涛;郑伟;李伟 |
分类号 |
F16C33/04(2006.01)I;F16C33/12(2006.01)I |
主分类号 |
F16C33/04(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
祖志翔 |
主权项 |
一种高耐磨套筒,具有容纳内插件穿过的内孔,其特征在于:所述内孔的表面设有CrAlN/SiO<sub>2</sub>纳米多层涂层,该CrAlN/SiO<sub>2</sub>纳米多层涂层由多个CrAlN层和SiO<sub>2</sub>层一一交替叠加而成。 |
地址 |
200949 上海市宝山区长建路198号1号厂房东 |