| 发明名称 | 一种光电材料表面的纳米结构绒面及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种光电材料表面的纳米结构绒面及其制备方法，具体地公开了一种光电材料表面的重构纳米结构绒面的制备方法，包括以下步骤：(a)提供一基片，在所述基片表面通过干法刻蚀或湿法刻蚀形成初始纳米结构；(b)对所述的初始纳米结构进行氧化处理，在初始纳米结构的表面形成氧化层；(c)部分或全部地去除所述的氧化层，得到纳米结构绒面。本发明还公开了一种由该方法制备的重构纳米结构绒面。本发明的方法制得的纳米结构绒面具有高陷光、低比表面积的特点，其反射率在较宽的波段范围内可以稳定在3%以下，特别适合于高效率太阳电池的制备。并且有望形成面向下一代规模化应用的黑硅电池技术。 | ||
| 申请公布号 | CN104576813A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
| 申请号 | CN201310480369.2 | 申请日期 | 2013.10.14 |
| 申请人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 发明人 | 高平奇;叶继春;韩灿 |
| 分类号 | H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;B82Y30/00(2011.01)I | 主分类号 | H01L31/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人 | 祝莲君;刘真真 |
| 主权项 | 一种光电材料表面的重构纳米结构绒面的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(a)提供一基片，通过干法刻蚀或湿法刻蚀在所述基片表面形成初始纳米结构；(b)对所述的初始纳米结构进行干法或湿法氧化处理，在初始纳米结构的表面形成氧化层；(c)部分或全部地去除所述的氧化层，得到重构纳米结构绒面。 | ||
| 地址 | 315201 浙江省宁波市镇海区庄市大道519号 | ||