去除掩模版上雾状缺陷的装置及方法

摘要

一种去除掩模版上雾状缺陷的装置，包括腔体、位于腔体上的第一进气通路和第一排气通路、以及设置于腔体内的掩模版夹持装置和激光光源，其中，所述第一进气通路、第一排气通路和激光光源在所述掩模版夹持装置的同一侧。一种去除掩模版上雾状缺陷的方法，包括：将待去除雾状缺陷的掩模版加载至掩模版夹持装置上，所述待去除雾状缺陷的掩模版上加载有保护膜，所述保护膜与激光光源相对；使所述待去除雾状缺陷的掩模版的温度达到预定温度，并通过第一进气通路向腔体提供保护气体，通过激光照射所述待去除雾状缺陷的掩模版。本发明提供的去除掩模版上雾状缺陷的装置及方法，改善缩短了去除雾状缺陷的周期，降低工艺成本。

主权项

一种去除掩模版上雾状缺陷的装置，其特征在于，包括腔体、位于腔体上的第一进气通路和第一排气通路、以及设置于腔体内的掩模版夹持装置和激光光源，其中，所述第一进气通路、第一排气通路和激光光源在所述掩模版夹持装置的同一侧；还包括第二进气通路和第二排气通路，所述第二进气通路和第二排气通路位于腔体上、且位于所述掩模版夹持装置的另一侧，与所述激光光源相对；还包括与所述第二进气通路连接的第二气体源，以向所述腔体提供加热气体。