发明名称 彩膜基板及其制作方法、显示装置
摘要 本发明涉及一种彩膜基板,包括透明基板,设置在所述透明基板上的黑矩阵单元和彩色树脂层,所述黑矩阵单元包括作为所述彩色树脂层形成基础的第一子黑矩阵;和位于所述第一子黑矩阵之上,且在所述彩色树脂层形成后填充于所述彩色树脂层之间的第二子黑矩阵;所述第一子黑矩阵的至少一部分被在所述第一子黑矩阵之后形成的所述彩色树脂层覆盖,且所述第一子黑矩阵的厚度和所述第二子黑矩阵的厚度之和不小于满足遮光需求的最小厚度值。本发明的有益效果是:减小彩色树脂层与黑矩阵单元搭接位置的角段差,提高液晶取向层的扩散均匀性,减小平坦层的厚度,节省成本。
申请公布号 CN103033978B 申请公布日期 2015.04.29
申请号 CN201210546522.2 申请日期 2012.12.14
申请人 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 发明人 黄常刚;王耸;万冀豫
分类号 G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;G02F1/1339(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I 主分类号 G02F1/1335(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 许静;黄灿
主权项 一种彩膜基板,包括透明基板,设置在所述透明基板上的黑矩阵单元和彩色树脂层,其特征在于,所述黑矩阵单元包括:作为所述彩色树脂层形成基础的第一子黑矩阵;和位于所述第一子黑矩阵之上,且在所述彩色树脂层形成后填充于所述彩色树脂层之间的第二子黑矩阵;所述第一子黑矩阵的至少一部分被在所述第一子黑矩阵之后形成的所述彩色树脂层覆盖,且所述第一子黑矩阵的厚度和所述第二子黑矩阵的厚度之和不小于满足遮光需求的最小厚度值。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号