| 摘要 |
환원로 내에서, 인듐 및 주석을 함유하는 ITO 타깃 스크랩을 환원 가스로 환원하고, ITO 중의 금속 성분의 조성비를 유지한 채로, ITO 타깃의 원료가 되는 인듐-주석 합금을 회수하는 방법. ITO 스퍼터링 타깃의 제조시 또는 사용 후에 발생하는 고순도 산화인듐-주석 함유 스크랩으로부터 인듐-주석 합금을 회수함과 함께, 이것을 산화인듐-산화주석 분말로 하고, 또한 이 산화인듐-산화주석 분말을 원료로 하여 ITO 타깃을 제조하는 기술을 제공한다. 즉, 스크랩을 그대로 합금으로 환원하고, 얻어진 합금의 조성을 유지한 채로 ITO 제조에 사용하고, 이로 인해 제조 공정에서의 조성의 제어 및 조정을 간소화한다. 또, 인듐-주석의 리사이클을 산화물의 환원으로만 함으로써 공정을 간소화하여, 종래법에 비해 제조 비용을 삭감할 수 있다. 또한, 부생성물을 물만으로 할 수 있기 때문에, 유해한 물질의 취급, 발생을 억제하고, 이로 인해 환경에 대한 부하를 저감시킬 수 있다. |
