一种激光直写式光刻机的聚焦系统及控制方法

摘要

本发明公开了一种激光直写式光刻机的聚焦系统及控制方法，属于半导体行业和印刷电路板行业激光直写光刻技术领域，包括曝光光头、曝光光路以及曝光基板，其中，曝光基板设置有多种不同的厚度；还包括设置在曝光光路左端的步进电机、设置在曝光光路内部的左棱镜和右棱镜；其中，右棱镜直角边与水平面平齐、斜边朝下的固定在曝光光路的内部右侧，左棱镜直角边与水平面平齐、斜边朝上，通过连接轴与步进电机连接，并通过步进电机控制可左右运动的设置在曝光光路的内部左侧，左棱镜的斜边与右棱镜的斜边始终保持平行。本发明避免了由机械结构和电机组成的调焦系统在调焦过程中产生的图像畸变问题，提升曝光质量，改善和提升产品良率。

主权项

一种激光直写式光刻机的聚焦系统，包括曝光光头（3）、曝光光头（3）下方设置的曝光光路（4）以及曝光基板（6），其中，所述的曝光基板（6）设置有多种不同的厚度；其特征在于，还包括设置在曝光光路（4）左端的步进电机（1）、设置在曝光光路（4）内部的左棱镜（2）和右棱镜（5）；其中，所述的右棱镜（5）直角边与水平面平齐、斜边朝下的固定在曝光光路（4）的内部右侧，所述的左棱镜（2）直角边与水平面平齐、斜边朝上，通过连接轴与步进电机（1）连接，并通过步进电机（1）控制可左右运动的设置在曝光光路（4）的内部左侧，左棱镜（2）的斜边与右棱镜（5）的斜边始终保持平行。