一种阵列基板的制备方法

摘要

本发明公开了一种阵列基板的制备方法，属于显示技术领域，提高了半曝光技术的成功率，并且提高了阵列基板的良品率。该阵列基板的制备方法包括：形成待刻蚀的导电层；在所述导电层之上形成绝缘层，在所述绝缘层之上形成光刻胶层；进行半色调光罩工艺或灰色调光罩工艺，去除所述光罩的完全透光区域对应的绝缘层，并去除部分透光区域对应的光刻胶层、减小所述部分透光区域对应的绝缘层的厚度；去除所述绝缘层未覆盖区域的导电层，形成所述导电层的结构；去除剩余的光刻胶层以及所述部分透光区域对应的绝缘层。本发明可用于液晶电视、液晶显示器、手机、平板电脑等显示装置。

主权项

一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：形成待刻蚀的导电层；在所述导电层之上形成绝缘层，在所述绝缘层之上形成光刻胶层；进行半色调光罩工艺或灰色调光罩工艺，去除光罩的完全透光区域对应的绝缘层，并去除部分透光区域对应的光刻胶层、减小所述部分透光区域对应的绝缘层的厚度；去除所述绝缘层未覆盖区域的导电层，形成所述导电层的结构；去除剩余的光刻胶层以及所述部分透光区域对应的绝缘层。