一种法拉第屏蔽板及其所在的等离子体处理系统

摘要

本发明公开了一种法拉第屏蔽板及其所在的等离子体处理系统，通过在法拉第屏蔽板的长槽间设置散热孔，可以增大介电窗直接曝露在风扇下方的面积，提高了热量的散失速率，通过控制法拉第屏蔽板上的散热孔的分布，可以降低介电窗中心区域和边缘区域的温度差，实现对介电窗的均匀降温，避免了介电窗中心区域和边缘区域温度差过大造成的介电窗破裂等问题。同时，实现介电窗的温度均匀调节还有利于真空反应室内的刻蚀工艺制程能均匀进行。

主权项

一种法拉第屏蔽板，所述法拉第屏蔽板用于一等离子体处理系统，所述等离子体处理系统包括至少一个反应腔室，所述反应腔室包括一介电窗口，所述法拉第屏蔽板位于所述介电窗口上方，其特征在于：所述法拉第屏蔽板上设置若干呈辐射状分布的长槽，所述长槽间设置若干散热孔，所述散热孔的孔径小于等于所述长槽的槽宽。