发明名称 |
图案化石墨烯薄膜及阵列基板的制作方法、阵列基板 |
摘要 |
本发明公开了一种图案化石墨烯薄膜的制作方法,包括:在基板上形成一层石墨烯,并在所述石墨烯上涂布感光材料;采用构图工艺使需要形成石墨烯薄膜图形区域的感光材料被去除;将已去除感光材料后裸露的石墨烯氧化成氧化石墨烯层;对整个基板进行超声波清洗,除去基板上未被氧化的石墨烯和该石墨烯上的感光材料;将氧化石墨烯层还原成石墨烯层,得到所述石墨烯薄膜。本发明还同时公开了一种阵列基板及其制作方法,运用该方法、阵列基板可减小数据线的线宽,提高开口率和分辨率。 |
申请公布号 |
CN104576515A |
申请公布日期 |
2015.04.29 |
申请号 |
CN201310575147.9 |
申请日期 |
2013.11.15 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
李鸿鹏;宋省勋;肖昂;李建 |
分类号 |
H01L21/768(2006.01)I;H01L23/532(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/768(2006.01)I |
代理机构 |
北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 |
代理人 |
王黎延;张振伟 |
主权项 |
一种图案化石墨烯薄膜的制作方法,其特征在于,该方法包括:首先,在基板上形成一层石墨烯,并在所述石墨烯上涂布感光材料;之后,采用构图工艺使需要形成石墨烯薄膜图形区域的感光材料被去除;然后,将已去除感光材料后裸露的石墨烯氧化成氧化石墨烯层;然后,对整个基板进行超声波清洗,除去基板上未被氧化的石墨烯和该未被氧化的石墨烯上的感光材料;最后,将氧化石墨烯层还原成石墨烯层,得到所述石墨烯薄膜。 |
地址 |
100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号 |