发明名称 图案化石墨烯薄膜及阵列基板的制作方法、阵列基板
摘要 本发明公开了一种图案化石墨烯薄膜的制作方法,包括:在基板上形成一层石墨烯,并在所述石墨烯上涂布感光材料;采用构图工艺使需要形成石墨烯薄膜图形区域的感光材料被去除;将已去除感光材料后裸露的石墨烯氧化成氧化石墨烯层;对整个基板进行超声波清洗,除去基板上未被氧化的石墨烯和该石墨烯上的感光材料;将氧化石墨烯层还原成石墨烯层,得到所述石墨烯薄膜。本发明还同时公开了一种阵列基板及其制作方法,运用该方法、阵列基板可减小数据线的线宽,提高开口率和分辨率。
申请公布号 CN104576515A 申请公布日期 2015.04.29
申请号 CN201310575147.9 申请日期 2013.11.15
申请人 北京京东方光电科技有限公司 发明人 李鸿鹏;宋省勋;肖昂;李建
分类号 H01L21/768(2006.01)I;H01L23/532(2006.01)I 主分类号 H01L21/768(2006.01)I
代理机构 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人 王黎延;张振伟
主权项 一种图案化石墨烯薄膜的制作方法,其特征在于,该方法包括:首先,在基板上形成一层石墨烯,并在所述石墨烯上涂布感光材料;之后,采用构图工艺使需要形成石墨烯薄膜图形区域的感光材料被去除;然后,将已去除感光材料后裸露的石墨烯氧化成氧化石墨烯层;然后,对整个基板进行超声波清洗,除去基板上未被氧化的石墨烯和该未被氧化的石墨烯上的感光材料;最后,将氧化石墨烯层还原成石墨烯层,得到所述石墨烯薄膜。
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