发明名称 |
一种薄膜沉积及退火装置 |
摘要 |
本实用新型适用于薄膜制造技术领域,提供了一种薄膜沉积及退火装置,包括真空腔体以及设置于真空腔体外的激光器和光束整形器,在激光器和光束整形器之间设有波长变换器,真空腔体的腔壁开有可供激光射入的窗口,在真空腔体内,于激光的入射光路上设有转盘,转盘上设有靶材和反射镜,在激光经过靶材或反射镜反射的光路上设有可承载薄膜的加热器。本实用新型在薄膜沉积后可以直接在原位退火,避免离线退火,提高了薄膜制造的效率;采用同光路实现薄膜的沉积和退火,装置结构简洁而功能丰富,成本低;薄膜形成于加热器上,激光退火和热退火可同时进行,也可以单独进行,二者有机结合可以获得良好的退火效果。 |
申请公布号 |
CN204298456U |
申请公布日期 |
2015.04.29 |
申请号 |
CN201420784534.3 |
申请日期 |
2014.12.11 |
申请人 |
深圳大学 |
发明人 |
胡居广;王斌;李启文;王刘杨;陈涛;向皓明 |
分类号 |
C23C14/58(2006.01)I;C23C16/56(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/58(2006.01)I |
代理机构 |
深圳中一专利商标事务所 44237 |
代理人 |
张全文 |
主权项 |
一种薄膜沉积及退火装置,包括真空腔体以及设置于所述真空腔体外的激光器和光束整形器,其特征在于,在所述激光器和光束整形器之间设有波长变换器,所述真空腔体的腔壁开有可供激光射入的窗口,在所述真空腔体内,于所述激光的入射光路上设有转盘,所述转盘上设有靶材和反射镜,在所述激光经过所述靶材或反射镜反射的光路上设有可承载薄膜的加热器。 |
地址 |
518000 广东省深圳市南山区南海大道3688号 |