| 发明名称 | 一种氧化铝基化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 一种氧化铝基化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及百分含量：抛光颗粒0.1~30wt%、表面活性剂0.01~10wt%、余量为pH调节剂和水性介质。本发明提供的化学机械抛光浆液对蓝宝石衬底材料的抛光速率可控制在50nm/min到200nm/min,同时表面粗糙度降低到了15Å以下。利用上述抛光液可实现对蓝宝石衬底材料速率可控、表面低损伤并且无残留的抛光。 | ||
| 申请公布号 | CN104559798A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
| 申请号 | CN201410837824.4 | 申请日期 | 2014.12.24 |
| 申请人 | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明人 | 李沙沙;刘卫丽;宋志棠 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人 | 梁海莲 |
| 主权项 | 一种氧化铝基化学机械抛光液，其特征在于，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及百分含量：抛光颗粒 0.1～30wt％表面活性剂 0.01～10wt％余量为pH调节剂和水性介质。 | ||
| 地址 | 201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢 | ||