发明名称 |
一种高陡岩质边坡覆绿地境的再造方法 |
摘要 |
本发明提供了一种高陡岩质边坡覆绿地境的再造方法,方法如下:在坡面平直、凹凸起伏小的岩壁上打孔,然后测定孔内的温度及湿度,对种植孔浸穴,然后将乔木或灌木移植进种植孔内,灌溉;在凸出或内凹的平台上挖坑,灌坑后将大基径的乔木或灌木移栽入坑中并灌溉;将鱼脊背削平、清理危岩体,形成阶梯状平台,然后按照阶梯状平台的走向开挖条形槽,在条形槽内打孔、挖坑,然后对槽内孔和坑分别进行浸孔和浸坑,将乔木或灌木移栽在槽内孔和坑中,将掺杂有草籽的土壤覆盖在槽的顶面上,灌溉即可。本发明在岩质边坡上人工造就植物地境,使植被经过前期养护后能够具有自组织能力,自然生长,达到裸露边坡覆绿的目的。 |
申请公布号 |
CN103556642B |
申请公布日期 |
2015.04.29 |
申请号 |
CN201310524118.X |
申请日期 |
2013.10.29 |
申请人 |
中国地质大学(武汉) |
发明人 |
宁立波;徐恒力;黄景春;王西平;周建伟 |
分类号 |
E02D17/20(2006.01)I;A01G1/00(2006.01)I |
主分类号 |
E02D17/20(2006.01)I |
代理机构 |
武汉华旭知识产权事务所 42214 |
代理人 |
周宗贵;刘荣 |
主权项 |
一种高陡岩质边坡覆绿地境的再造方法,其特征在于方法如下:在高陡岩质边坡中的坡面平直、凹凸起伏小的岩壁上打孔,然后测定孔内的温度及湿度,选择孔内湿度大于60%的孔作为种植孔,对种植孔浸穴,然后将乔木或灌木移植进种植孔内,灌溉;在高陡岩质边坡上的凸出或内凹的平台上挖坑,灌坑后将乔木或灌木移栽入坑中并灌溉;将高陡岩质边坡中的鱼脊背削平、清理危岩体,形成阶梯状平台,然后按照阶梯状平台的走向开挖条形槽,在条形槽内打孔、挖坑,然后对槽内孔和坑分别进行浸孔和浸坑,将乔木或灌木移栽在槽内孔和坑中,将掺杂有草籽的土壤覆盖在槽的顶面上,灌溉即可;针对高陡岩质边坡中的坡面平直、凹凸起伏小的岩壁,具体方法如下:在岩壁上以湿法钻进或干法钻进钻孔,孔呈矩阵状分布在岩壁上,孔的直径为150mm,孔深为50cm,孔的朝向与竖直方向呈45°,打孔完毕后用枯草塞口1小时以上,塞口1小时后即进行温度、湿度测定,在孔深10cm、20cm、30cm、50cm处获取温度和湿度数据,选取孔深30cm以下湿度大于60%的孔作为种植孔;在种植前对孔穴缓慢浇水,待孔内无积水时,浸孔完成,然后用耕植土与水混合搅拌制成泥浆,将泥浆涂抹在孔壁周围,完成泥浆挂壁工作;然后,用耕植土作为底土在孔内填入10cm,将基径不超过1.5cm的带苗植株顺势插入孔中再上覆耕植土,填至距离孔口1cm位置;移栽工作完成后,用水沿孔壁浇水,边浇边用手压孔壁周围土壤,使其与孔壁紧密接触,待内部土壤完全湿润后,停止浇水,并盖上地膜,用小碎石压好地膜以防止土面蒸发。 |
地址 |
430074 湖北省武汉市洪山区鲁磨路388号 |