| 发明名称 | 连续处理装置 | ||
| 摘要 | 获得连续处理装置，其是小型的处理装置，发挥充分的处理量，而且表现出均匀的接触处理性。处理器(10)内的液流为回转流，在所述处理器(10)内的接触处理场，在比处理器(10)的内表面靠中心侧的位置注入注入液(A、B)，进行接触处理。 | ||
| 申请公布号 | CN104582828A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
| 申请号 | CN201380043123.7 | 申请日期 | 2013.02.25 |
| 申请人 | 月岛机械株式会社 | 发明人 | 铜谷阳;后藤秀德 |
| 分类号 | B01J19/24(2006.01)I;B01F3/08(2006.01)I;B01F5/00(2006.01)I;B01F5/10(2006.01)I;C01G53/00(2006.01)I | 主分类号 | B01J19/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 李辉;黄纶伟 |
| 主权项 | 一种连续处理装置，其特征在于，所述连续处理装置具有：处理器；注入构件，其向该处理器内注入注入液；以及循环构件，其从所述处理器的另一端部抽出处理液，并将抽出的处理液的至少一部分送回到所述处理器的一端部，所述处理器内的液流为回转流，在比处理器的内表面靠中心侧的位置注入所述注入液。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||