| 发明名称 | 一种扫描曝光装置 | ||
| 摘要 | 一种扫描曝光装置，用于将掩模图案形成在基板上，包括：照明光学系统，所述照明光学系统具有多个照明单元，所述多个照明单元在所述掩模的掩模面形成多个照明视场；能量传感器，用于探测所述照明视场的能量分布；投影光学系统，所述投影光学系统具有分别与照明光学系统中的照明单元相应的多个投影单元，所述多个照明视场经多个投影单元在基板上形成拼接视场，所述投影单元包括视场光阑，所述视场光阑由多个光阑拼接而成；以及调整单元，依据所述能量传感器的探测值，调整所述视场光阑的大小和形状。 | ||
| 申请公布号 | CN104570615A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
| 申请号 | CN201310517418.5 | 申请日期 | 2013.10.29 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 朱立荣 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B17/08(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人 | 王光辉 |
| 主权项 | 一种扫描曝光装置，用于将掩模图案形成在基板上，包括：照明光学系统，所述照明光学系统具有多个照明单元，所述多个照明单元在所述掩模的掩模面形成多个照明视场；能量传感器，用于探测所述照明视场的能量分布；投影光学系统，所述投影光学系统具有分别与照明光学系统中的照明单元相应的多个投影单元，所述多个照明视场经多个投影单元在基板上形成拼接视场，所述投影单元包括视场光阑，所述视场光阑由多个光阑拼接而成；以及调整单元，依据所述能量传感器的探测值，调整所述视场光阑的大小和形状。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 | ||