发明名称 | 用于绕制单层线圈的装置和方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种用于绕制单层线圈的装置和方法。本发明的装置具有线圈绕制工具(CWT)。线圈绕制工具(CWT)具有用于引导金属导体(MC)以形成单层线圈一部分的装置(MM)。线圈绕制工具(CWT)安装成绕第一旋转轴线(RA1)旋转,以形成线圈的一部分。导体进给鼓轮(CFD)承载金属导体(MC),并设计成将金属导体(MC)传递给线圈绕制工具(CWT)用以成形。导体进给鼓轮(CFD)由夹具(F)承载。夹具(F)安装成绕第二旋转轴线(RA2)旋转,以使导体进给鼓轮(CFD)也能绕第二轴线(RA2)旋转。线圈绕制工具(CWT)的第一旋转轴线(RA1)垂直于导体进给鼓轮(CFD)的第二旋转轴线(RA2),以通过线圈绕制工具(CWT)的旋转和导体进给鼓轮(CFD)的旋转执行绕制。 | ||
申请公布号 | CN101667765B | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
申请号 | CN200910140033.5 | 申请日期 | 2009.07.10 |
申请人 | 西门子公司 | 发明人 | H·斯蒂斯达尔;M·温瑟-詹森 |
分类号 | H02K15/04(2006.01)I | 主分类号 | H02K15/04(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 范晓斌;曹若 |
主权项 | 一种用于绕制单层线圈的装置,其具有‑线圈绕制工具(CWT),该线圈绕制工具具有用于引导金属导体(MC)以形成单层线圈的一部分的装置(MM),其中,该线圈绕制工具(CWT)安装成绕第一旋转轴线(RA1)旋转,以用于线圈的一部分的形成;‑导体进给鼓轮(CFD),该导体进给鼓轮承载金属导体(MC)并且将金属导体(MC)传递给线圈绕制工具(CWT)用于成形,其中,该导体进给鼓轮(CFD)由夹具(F)承载;其特征在于,‑夹具(F)安装成绕第二旋转轴线(RA2)旋转,用以使导体进给鼓轮(CFD)也能够绕第二轴线(RA2)旋转;‑线圈绕制工具(CWT)的第一旋转轴线(RA1)垂直于导体进给鼓轮(CFD)的第二旋转轴线(RA2),用以通过线圈绕制工具(CWT)的旋转和导体进给鼓轮(CFD)的旋转来执行绕制;以及‑线圈绕制工具(CWT)具有纵向轴线(LA),该纵向轴线(LA)垂直于线圈绕制工具(CWT)的第一旋转轴线(RA1);其中,导体进给鼓轮(CFD)由夹具(F)所承载着的托架(B)保持;以及其中,导体进给鼓轮(CFD)的托架(B)安装成绕平行于第二旋转轴线(RA2)的第三旋转轴线(RA3)旋转,以适应线圈绕制工具(CWT)的几何需要。 | ||
地址 | 德国慕尼黑 |