| 发明名称 |
半導体装置の製造装置、半導体装置の製造方法及び記録媒体 |
| 摘要 |
基板を収容する処理室内に処理液を供給する処理液供給部と、処理室内で処理液を加熱する加熱部と、処理室内に設けられ、基板を支持する基板支持部と、を備える。 |
| 申请公布号 |
JPWO2013077321(A1) |
申请公布日期 |
2015.04.27 |
| 申请号 |
JP20130545928 |
申请日期 |
2012.11.20 |
| 申请人 |
株式会社日立国際電気 |
发明人 |
和田 優一;佐久間 春信;芦原 洋司;立野 秀人 |
| 分类号 |
H01L21/31;H01L21/312;H01L21/316 |
主分类号 |
H01L21/31 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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